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大学院生2名が電気学会中国支部奨励賞を受賞しました!

2026.03.17

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2025年10月25日、山口県宇部市の山口大学常盤キャンパスにて開催された電気・情報関連学会中国支部連合大会において、大学院 工学系研究科 博士前期課程 電気電子工学専攻の大学院生2名が優秀な研究発表を行い、「電気学会中国支部奨励賞」を受賞しました。

本大会は、一般社団法人電気学会中国支部が主催する学術大会で、約150名の発表者が参加しました。

受賞したのは、大学院 工学系研究科 電気電子工学専攻2年次生の林留唯斗さん(高水高等学校出身/山口県)と、1年次生の菅野海森さん(鹿児島県立屋久島高等学校出身/鹿児島県)です。
両名はプラズマ・放電・高電圧部門において研究成果を発表し、それぞれ電気学会中国支部奨励賞を受賞しました。

林さん(左)と菅野さん(右)

林さん(左)と菅野さん(右)

■研究発表の概要

今回発表された研究テーマは、以下の通りです。

・林留唯斗さん
「誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法を用いてプラズマ照射による表面処理を施したフッ素樹脂基板上に成膜したNi薄膜の応力評価および剥離率の関係性」
・菅野海森さん
「誘導結合プラズマ支援型非平衡マグネトロスパッタ法を用いてプラズマ照射による表面処理を施したフッ素樹脂基板に成膜したNi薄膜の物性評価によるイオン照射効果の検討」

PTFE(フッ素樹脂)は、次世代の6Gのような高速通信に対応する基板材料として有望です。しかし、フライパンのコーティングなどにも使われる素材で、他の物質がくっつきにくいという特徴があり、表面に金属をしっかり密着させることが難しいという課題があります。

PTFE基板

PTFE基板

そこで本研究では、プラズマを使ってPTFEの表面を処理することで密着性を高め、その上にニッケル(Ni)薄膜を形成するという取り組みを行いました。さらに、その薄膜の性質を詳しく調べることで、イオン照射がどのような効果をもたらすかを検討しました。

研究室内だけでなく、異なる分野の研究者から客観的な意見や助言を得ることを目的に本大会へ参加し、研究の質をさらに高める機会となりました。

プラズマによる表面処理を行っている様子

プラズマによる表面処理を行っている様子

■受賞学生のコメント

林さんと菅野さんは、次のように話します。
「発表資料をまとめる過程で、『人に伝えること』を意識したことで、自分の中で感覚的に理解していた部分を改めて言語化でき、研究内容への理解がより深まりました。
また、研究室外の教員からの質問やコメントを通して、新たな課題にも気づくことができたと実感しています」

実験前の準備をしている様子

実験前の準備をしている様子

■今後の展望

今回の研究は、まだ基板としての実用化には課題が残っています。しかし、発表を通して得られた多くの助言や新たな視点を活かし、より実用性の高い材料開発へと研究を発展させていく予定です。

次世代通信技術を支える材料研究として、今後のさらなる進展が期待されます。